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低溫等離子除臭裝置

低溫等(děng)離子除臭裝置

低溫等離子除臭裝置是利用這些高能電子、自(zì)由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使(shǐ)汙染(rǎn)物分子在短(duǎn)的時間(jiān)內(nèi)發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技(jì)術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產(chǎn)品概述 Product description

產品概述

低溫等離子除臭設備是利用這些高能電(diàn)子、自由基等活性粒子和(hé)廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到(dào)降解汙染物的目的的一種環保設備。




技(jì)術原理 technology principle

產(chǎn)品概述

  首先廢氣經均(jun1)流板過濾棉進入設備時,由設(shè)備高壓穩定高(gāo)頻放電,瞬間產(chǎn)生1.5萬(wàn)伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分(fèn)子由於(yú)鍵能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為(wéi)第一階段淨化。

其次,隨廢(fèi)氣進入設備的(de)水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強(qiáng)氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快(kuài)反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量(liàng),促使(shǐ)長鏈、多鏈汙染物(wù)分子(zǐ)的分子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物(wù)降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學(xué)反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品(pǐn)概述

從等離子體反應過(guò)程可以(yǐ)看出(chū),電子先(xiān)從電場獲得能量,通過激發或(huò)電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲(huò)得能量的(de)汙染物分(fèn)子被激發,同時有部分分(fèn)子(zǐ)被電離,從而成(chéng)為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之(zhī)間相互碰撞後生成穩定產物和熱(rè)。

另外,高能電子也(yě)能被鹵(lǔ)素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負(fù)離(lí)子具有很好的化學活性,在(zài)化學反應中起著重要的作用。






性能優(yōu)勢 Performance advantage

  • 01

    介(jiè)質阻擋放電產生的低溫等離(lí)子體中,電子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反(fǎn)應快,不受氣速限製,氣阻小(xiǎo),工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與(yǔ)廢(fèi)氣不直接接觸,根本上解(jiě)決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻(zhī)需用電,操作簡單,無需派專職人員看守(shǒu),基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市(shì)政設(shè)施,以及製(zhì)藥廠、油漆(qī)廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥(yào)廠、印刷(shuā)廠(chǎng)、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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