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低溫等(děng)離子除臭設備

低溫等離子除(chú)臭(chòu)設備

低(dī)溫等離(lí)子除臭設備是利用這些高能電子、自由基(jī)等(děng)活性粒子和廢氣中的(de)汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降(jiàng)解汙染物的目的的一種環保(bǎo)設備。

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  • 產品概述
  • 技(jì)術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述(shù)

低溫等離子除臭設(shè)備是利用(yòng)這些高能電子、自由基等活(huó)性粒子和(hé)廢氣中的汙染物作(zuò)用,使(shǐ)汙染物分子(zǐ)在短的時間內發生分解,以達到降解汙染(rǎn)物的目的的(de)一種環保設備(bèi)。



技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢(fèi)氣經均流板過濾棉進入設備(bèi)時(shí),由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多(duō)鏈廢氣分子(zǐ)由於鍵能(néng)較弱(ruò),約束力(lì)較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從(cóng)而變(biàn)成小(xiǎo)分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進(jìn)入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分(fèn)子充分(fèn)接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹(gàn)淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促(cù)使(shǐ)長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂(liè)重組,使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳(tàn)汙染物。








等離子體化學反應過程(chéng) Plasma chemical reaction process 

產品概述

從(cóng)等離子(zǐ)體反應過程可以看出,電子先(xiān)從電場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些(xiē)獲得能量的(de)汙染物分子被激發,同時有部分分子被(bèi)電離,從而成為活性基團。然後這些活性基團(tuán)與氧氣、活性基團與活性(xìng)基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素(sù)和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負離子(zǐ)具有很好的化學活性,在化學反(fǎn)應中起(qǐ)著重要的作用(yòng)。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的(de)低溫等離子體中(zhōng),電子能量高,幾乎(hū)可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應(yīng)快,不受氣速限製,氣阻(zǔ)小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不(bú)直接接觸,根本上解決了(le)設備腐蝕問(wèn)題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單(dān),無需派專職人(rén)員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備(bèi)啟動、停止(zhǐ)十分迅速,隨用(yòng)隨開,不受氣溫的(de)影響。

適用範(fàn)圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化(huà)工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等(děng)等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備(bèi)適用範(fàn)圍

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