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低溫等離子除臭(chòu)裝置

低溫(wēn)等離子除臭裝置

低溫等離子除(chú)臭裝置是利用這些高能電子、自由基(jī)等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分(fèn)子在短的時間內發生分(fèn)解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技(jì)術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

低溫等離子除臭設備是(shì)利用這些高能電子、自由基(jī)等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在(zài)短的時間內發生分解(jiě),以達到降解汙染物的(de)目的(de)的一(yī)種環保設備。




技術(shù)原(yuán)理 technology principle

產品(pǐn)概述

  首先(xiān)廢氣經均流板過濾棉進(jìn)入設備時(shí),由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生(shēng)1.5萬伏特至2萬伏(fú)特高壓,擊穿廢(fèi)氣。此階段中,長鏈、多鏈(liàn)廢氣分子由於鍵能較弱,約(yuē)束力較小。很容易(yì)被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化(huà)合物,此為第(dì)一階段淨化。

其次,隨(suí)廢氣進入設備的水分子、氧分子(zǐ)被高壓擊穿斷裂,生成強氧(yǎng)化基(jī)團羥基、臭(chòu)氧分子等。這(zhè)些強氧化基團與廢氣分子充分(fèn)接觸氧化,加快反應(yīng)進程。整個反應幹淨,能量利用率(lǜ)高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組,使難處(chù)理的汙染物降(jiàng)解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反應(yīng)過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離(lí)子體反應過程可以看出,電子(zǐ)先從電場(chǎng)獲(huò)得能量,通過激發或(huò)電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量(liàng)的汙(wū)染物(wù)分子(zǐ)被(bèi)激發,同時有部分分子(zǐ)被電離,從(cóng)而成為活(huó)性基團。然後這些活性基團與氧(yǎng)氣、活性基團(tuán)與活性基團之間相互碰撞後(hòu)生成穩定產物和熱。

另外,高能(néng)電子也(yě)能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物(wù)質俘(fú)獲(huò),成為負離子。這(zhè)類負(fù)離子具有很好的化學(xué)活性,在化學反應(yīng)中起著重要的作用(yòng)。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電(diàn)產生的低溫等離子體中(zhōng),電子能量高,幾乎可以和所有的惡(è)臭氣(qì)體分子(zǐ)作用(yòng);

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工(gōng)藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接(jiē)接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員(yuán)看守,基(jī)本不占用人(rén)工費;

  • 05

    設備(bèi)啟動、停止十分迅速,隨用隨(suí)開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷(shuā)廠、造紙廠、飼料加(jiā)工廠等等工業場所。

UV光解(jiě)廢氣淨化設備適用範圍

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