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離子(zǐ)除臭裝置

離子除臭裝(zhuāng)置

離子除臭裝置是利(lì)用這些高(gāo)能電子、自由基等(děng)活(huó)性粒子和廢氣中的汙染物作用,使(shǐ)汙染物分子在短的時間(jiān)內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述(shù) Product description

產品概述(shù)

離子除臭(chòu)裝置是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作(zuò)用,使(shǐ)汙染物(wù)分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染(rǎn)物的目(mù)的的一種環保設備。




技術(shù)原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入(rù)設備時,由設備高壓穩定高(gāo)頻放電,瞬間產生1.5萬伏特(tè)至2萬伏特高(gāo)壓,擊穿廢氣。此階(jiē)段中,長(zhǎng)鏈、多(duō)鏈廢氣分子由於鍵能(néng)較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團(tuán)羥基(jī)、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸(chù)氧化,加(jiā)快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子(zǐ)功能段可以(yǐ)激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈(liàn)汙染物分子的分子鍵(jiàn)斷裂重組,使難處理的汙染物降解為較易處理的(de)低碳汙染物。








等離子體(tǐ)化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概(gài)述

從等離子體反(fǎn)應過(guò)程可以看出,電子先從電場獲得能量,通過(guò)激(jī)發或電(diàn)離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量的汙染物分子(zǐ)被激發,同時(shí)有部分(fèn)分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性(xìng)基團與氧氣、活(huó)性基團與活性基團(tuán)之間相互碰撞(zhuàng)後生成穩定產物和熱。

另(lìng)外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的(de)物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學(xué)反應中起著重要的作用。






性能優勢(shì) Performance advantage

  • 01

    介質(zhì)阻擋(dǎng)放電產生的低溫等離子體中,電子能量高,幾乎(hū)可以和所有的(de)惡臭氣體(tǐ)分子作(zuò)用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝(yì)成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料(liào),電極與廢氣不直(zhí)接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需(xū)用電,操作簡單,無需派專職人員看守,基本(běn)不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止(zhǐ)十分迅速,隨用(yòng)隨開(kāi),不受氣溫的影(yǐng)響。

適(shì)用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥廠(chǎng)、油漆廠(chǎng)、塗料廠、皮革廠、石油化工、農(nóng)藥(yào)廠、製藥廠、印刷廠(chǎng)、造紙廠、飼(sì)料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣(qì)淨化設(shè)備適用範(fàn)圍

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