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離子除臭設備

離子除臭設備

離子除臭設備是利用這些(xiē)高能電(diàn)子(zǐ)、自由基等活性(xìng)粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子(zǐ)在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保(bǎo)設備。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢(shì)
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

離子(zǐ)除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和(hé)廢氣中的汙(wū)染物作用,使汙染物分子在短(duǎn)的時間內發生分(fèn)解,以達(dá)到降解汙染物的目的的一種(zhǒng)環保設備。




技術原理 technology principle

產品(pǐn)概述

  首(shǒu)先(xiān)廢氣經均流板過(guò)濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至(zhì)2萬伏(fú)特高壓(yā),擊穿廢氣。此階段中,長(zhǎng)鏈、多鏈廢氣(qì)分子由於鍵(jiàn)能較弱,約束力較小(xiǎo)。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子(zǐ)化(huà)合物,此為第一階段淨化。

其次(cì),隨(suí)廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧(yǎng)分子等。這些(xiē)強氧化基團與廢氣分子充分接觸(chù)氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙(wū)染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組,使難處理的汙染(rǎn)物降解為較(jiào)易處理的低碳汙染物(wù)。








等離子體化學反(fǎn)應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等(děng)離子體反應過(guò)程(chéng)可以看出(chū),電子先(xiān)從電場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量的(de)汙(wū)染物(wù)分子被(bèi)激發,同時有部(bù)分分子被電離(lí),從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基(jī)團與活性基團之間(jiān)相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高(gāo)能(néng)電子也能被鹵素(sù)和氧氣等電子親和力較強(qiáng)的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反應中起著重要的作用。






性能優勢(shì) Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離(lí)子體中,電(diàn)子能量高,幾乎可以(yǐ)和所有(yǒu)的惡臭氣體分子作用(yòng);

  • 02

    反應快,不受氣速限製(zhì),氣阻(zǔ)小,工藝成熟;

  • 03

    采用防(fáng)腐蝕材料,電極與廢氣(qì)不直接(jiē)接(jiē)觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看守,基本不占用(yòng)人工(gōng)費(fèi);

  • 05

    設備啟(qǐ)動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙(wū)水廠等市政設施,以及製藥廠、油漆(qī)廠(chǎng)、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥(yào)廠、製藥廠、印(yìn)刷廠、造(zào)紙廠、飼料加工(gōng)廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設(shè)備適用範圍

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