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低溫等離子除臭(chòu)設備(bèi)

低溫等離子除臭設(shè)備

低溫(wēn)等離子除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性(xìng)粒子和廢氣中(zhōng)的汙染物作用,使汙染物分子在(zài)短的時間內(nèi)發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

低溫等離子除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙(wū)染物作用,使汙染物分子在(zài)短的時間內發(fā)生(shēng)分解,以達到降解汙染(rǎn)物(wù)的目的的一種環保設備。



技術原理 technology principle

產(chǎn)品概述

  首先廢氣經均(jun1)流(liú)板過濾棉進入(rù)設備時,由設備高壓(yā)穩定(dìng)高頻(pín)放電,瞬間產生(shēng)1.5萬伏特至2萬伏特高(gāo)壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵(jiàn)能較弱,約束力(lì)較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而(ér)變成小分子化合物,此為第一階段淨(jìng)化(huà)。

其次,隨廢氣進入設備的水分(fèn)子、氧分子被高壓擊穿(chuān)斷裂,生成強氧化(huà)基(jī)團羥基、臭氧分子等。這些強氧(yǎng)化基團與廢氣分子充(chōng)分(fèn)接觸氧化,加快反應進程。整個反(fǎn)應幹淨,能(néng)量利用率高,淨化(huà)效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分(fèn)子的分子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降(jiàng)解為較(jiào)易處理的低碳汙染(rǎn)物(wù)。








等離子(zǐ)體(tǐ)化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以看出,電(diàn)子先從電場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物(wù)分(fèn)子中去,那(nà)些獲得(dé)能(néng)量(liàng)的汙染物分子(zǐ)被激發,同時有部分分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活(huó)性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和(hé)氧氣等電子親和(hé)力較強(qiáng)的物質(zhì)俘獲,成為負離子。這類負離(lí)子具有很好的化學活性(xìng),在化學反應中起著重要的(de)作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體中(zhōng),電子能量高,幾乎可(kě)以和所有(yǒu)的惡臭氣體分(fèn)子作用;

  • 02

    反應(yīng)快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采(cǎi)用防(fáng)腐蝕材料,電極與廢(fèi)氣不直接接(jiē)觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專(zhuān)職人員看守,基本(běn)不占(zhàn)用人工(gōng)費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥(yào)廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷(shuā)廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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