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低溫等離子除臭裝置

低溫(wēn)等(děng)離子除臭(chòu)裝(zhuāng)置(zhì)

低溫等離子(zǐ)除臭裝置是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物(wù)分(fèn)子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優(yōu)勢
  • 適用範圍

產品概述(shù) Product description

產品概述

低溫等離子除臭設備(bèi)是利用這些高能電子、自由基等(děng)活性粒子和廢(fèi)氣中(zhōng)的汙染(rǎn)物作(zuò)用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。




技術原理(lǐ) technology principle

產品概述

  首(shǒu)先廢氣經均流板過濾棉進入設備(bèi)時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生(shēng)1.5萬伏特(tè)至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階(jiē)段中,長(zhǎng)鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約束力(lì)較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為(wéi)第一階段淨化。

其次,隨廢(fèi)氣進入設備的水分(fèn)子、氧分子被高壓擊(jī)穿斷裂,生成強氧化(huà)基團羥(qiǎng)基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分(fèn)接觸氧化,加快反應進程(chéng)。整個反應(yīng)幹淨,能(néng)量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降解為較易(yì)處理的低碳汙染物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以看(kàn)出,電子先從電(diàn)場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等(děng)電子親和力較強的物質俘獲,成(chéng)為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化(huà)學反(fǎn)應中(zhōng)起著(zhe)重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介(jiè)質阻擋放(fàng)電產生的低(dī)溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體(tǐ)分子作用(yòng);

  • 02

    反應快,不受氣速限製(zhì),氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不(bú)直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看守,基本不占用(yòng)人工費;

  • 05

    設備啟動、停(tíng)止十分迅速,隨用(yòng)隨開,不受(shòu)氣溫的影響。

適(shì)用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥廠、油(yóu)漆廠、塗料廠、皮革廠、石(shí)油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設(shè)備適用範圍

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