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等離子除臭裝置(zhì)

等離子除臭裝置

等離子除臭裝置是利(lì)用這(zhè)些(xiē)高能(néng)電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染(rǎn)物作用,使汙染物分(fèn)子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染(rǎn)物的目的的一種環保設(shè)備。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

等(děng)離(lí)子除臭裝置是利用這些高能電子、自由基等活性粒(lì)子和廢氣中的汙染物作用,使汙(wū)染物分子在(zài)短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。




技(jì)術原理 technology principle

產(chǎn)品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉(mián)進入設(shè)備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊(jī)穿廢氣。此階段中,長(zhǎng)鏈、多鏈廢氣分子由於(yú)鍵能較弱,約束(shù)力較(jiào)小。很容易(yì)被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段淨化(huà)。

其次(cì),隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被(bèi)高(gāo)壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基(jī)、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量(liàng)利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激(jī)發汙染物能量,促使長鏈、多鏈(liàn)汙染物分子的分子鍵斷裂重(chóng)組(zǔ),使難處理的汙染物降解(jiě)為較易處理(lǐ)的低碳(tàn)汙染物(wù)。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可(kě)以看出,電子先從電場(chǎng)獲得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那(nà)些獲得能量的汙染物分子被(bèi)激發,同時有部分分子被電(diàn)離,從而成為活(huó)性基團。然(rán)後這(zhè)些活性基團與氧氣、活(huó)性基團與活性基團之間相(xiàng)互碰撞後生成(chéng)穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成(chéng)為負(fù)離(lí)子。這類負離子具(jù)有很好的化(huà)學活性,在化學反應中(zhōng)起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離(lí)子體中,電子能量高,幾乎可以和(hé)所(suǒ)有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受(shòu)氣速限製,氣阻(zǔ)小(xiǎo),工藝成熟;

  • 03

    采(cǎi)用防腐(fǔ)蝕材料(liào),電極與(yǔ)廢氣不直接接觸(chù),根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無(wú)需派專職人員看守,基本不占用人工(gōng)費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的(de)影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷(shuā)廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣(qì)淨化設備適用範圍

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